Name: Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma (en Francés)
Price: 103.88 USD
Availability: InStock
Author: Phan, Thành-Long
ISBN: 9786202550895

portada Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma (en Francés)

Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma (en Francés)

Formato

Libro Físico

Autor

Thành-Long Phan

Editorial

Editions Universitaires Europeennes

Idioma

Francés

N° páginas

236

Encuadernación

Tapa Blanda

Dimensiones

22.9 x 15.2 x 1.4 cm

Peso

0.35 kg.

ISBN13

9786202550895

Categorías

Hardware (o soporte físico del ordenador)

Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma (en Francés)

Thành-Long Phan (Autor) · Editions Universitaires Europeennes · Tapa Blanda

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Reseña del libro "Étude fondamentale des mécanismes physico-chimiques de gravure plasma (en Francés)"

L'objectif de ce travail porte sur la généralisation de la modélisation de la gravure du silicium dans les plasmas de fluor ou de chlore à celle de la gravure des éléments de la colonne IV et des composés III-V de structure cristalline de type diamant ou zinc-blende dans les plasmas d'halogènes, i.e. fluor, chlore, brome et iode. Dans ce contexte, les effets stériques et de diffusion en volume et/ou en surface en constituent les problématiques principales. Cette généralisation s'appuiesur le modèle de gravure de Petit et Pelletier qui, par rapport aux modèles antérieurs, prend en compte un certain nombre d'hypothèses distinctes ou additionnelles telles que les interactions répulsives entre adatomes d'halogènes proches voisins, les mécanismes de Langmuir-Hinshelwood pour la formationdes produits de réaction, la nature mono-couche ou multi-couches de l'adsorption, et la diffusion des adatomes en surface.