Name: Nanoscale Pattern Formation Under ion Bombardment (en Inglés)
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Author: Kumar Tanuj

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portada Nanoscale Pattern Formation Under ion Bombardment (en Inglés)

Nanoscale Pattern Formation Under ion Bombardment (en Inglés)

Formato

Libro Físico

Editorial

Lap Lambert Academic Publishing

Autor

Kumar Tanuj

Idioma

Inglés

N° páginas

176

Encuadernación

Tapa Blanda

ISBN13

9783659708251

Nanoscale Pattern Formation Under ion Bombardment (en Inglés)

Kumar Tanuj (Autor) · Lap Lambert Academic Publishing · Tapa Blanda

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Reseña del libro "Nanoscale Pattern Formation Under ion Bombardment (en Inglés)"

In this book we have discussed the fabrication of self organised nanostructures on the surfaces of GaAs(100) as well as of Si(100) using energetic ion beams. For the case of GaAs(100), role of altered surface composition has been investigated to understand the growth evolution of ripples and nanodosts on the surface.The deeper understanding on the origin of ripples was developed on Si(100) semiconductor as a function of ion beam parameters. Stress induced solid flow inside the amorphous layer is studied in ripple patterning. And, the importance of amorphous/crystalline (a/c) interface in the surface patterning is summarized as a function of ion fluence